2019年8月28日，微机电系统（mems）、纳米技术和半导体市场晶圆键合与光刻设备领先供应商ev集团（evg）今日宣布，与特种玻璃和微晶玻璃领域的世界领先技术集团肖特携手合作，证明300－mm（12英寸）光刻／纳米压印（nil）技术在下一代增强现实／混合现实（ar／mr）头戴显示设备的波导／光导制造中使用的高折射率（hri）玻璃晶圆的大体积图案成形已就绪。
此次合作涉及evg的专有smartnil®工艺和schott realview™高折射率玻璃晶圆，将在evg位于奥地利总部的nilphotonics®能力中心进行。肖特将于9月4日至7日在深圳会展中心举行的中国国际光电博览会上展示一款采用evg smartnil技术进行图案成形的300－mm schott realview™玻璃晶圆。
300－mm和200－mm schott realview™玻璃基板，装配在应用smartnil® uv－nil技术的evg® hercules® nil系统
肖特增强现实负责人ruediger sprengard博士表示：“将高折射率玻璃晶圆的制造扩展到300－mm，对于实现我们客户满足当今和未来领先ar／mr设备不断增长的市场需求所需的规模经济产量来说至关重要。通过携手合作，evg和肖特彰显了当今300－mm高折射率玻璃制造的设备和供应链的就绪性。”
在此之前，使用光刻／纳米压印技术对具有光子学应用结构的玻璃基板进行图案成形仅限于200－mm基板。向300－mm晶圆加工的迁移是将ar／mr头戴显示设备推向大众消费和工业市场迈出的重要一步。不过，在这些较大的基板上保持高基板质量和工艺均匀性是很难控制的，需要先进的自动化和工艺控制能力。evg的smartnil技术得益于多年的研究、开发和实验，旨在满足纳米图案成形的需求，经过了现场验证，能够轻松从晶圆级样品尺寸扩展到大面积基板。去年六月，evg推出了hercules® nil 300 mm，将smartnil引入300－mm制造，满足各种设备和应用的生产需求，其中包括ar、mr和虚拟现实（vr）头戴显示设备的光学器件以及3d传感器、生物医疗设备、纳米光子学和等离子电子学。
集成到 smartnil® uv－nil系统的全模块化evg hercules nil 300 mm
ev集团企业技术开发和知识产权总监markus wimplinger表示：“evg的nilphotonics能力中心成立于2014年，为光刻／纳米压印技术供应链中的各个合作伙伴和公司与evg合作提供了一个开放式的创新孵化器，从而缩短创新光子器件和应用的开发周期和上市时间。我们很高兴与肖特公司合作，证明evg光刻／纳米压印技术解决方案的价值，不仅有助于新技术和新工艺的开发，还能够加速新技术和新工艺在大众市场中的采用。我们正在携手肖特开展的工作，彰显了光刻／纳米压印技术设备和工艺的成熟性，为各种令人兴奋的基于光子学的新产品和新应用的300－mm制造奠定了基础。”
schott realview™高折射率玻璃晶圆是领先ar／mr设备的关键组件，已经实现了批量生产。产品组合提供了高达1．9的折射率，支持深度沉浸的ar／mr应用，视野更广，高达65度。在与增强现实硬件制造商进行多年研发之后，肖特在2018年推出了第一代schott realview™。这款高端产品在上市一年后便荣获了享有盛誉的2019年sid显示行业奖（sid display industry award 2019）。

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